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    脈沖激光外延制備系統的9個優勢介紹

    發布時間:2021-07-23      點擊次數:116
      脈沖激光外延制備系統可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料,還提供相關系統配件,例如基片加熱裝置、原位監測工具,還為您提供標準的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶、聚合物、納米鉆石、鉆石涂層以及器件加工。
      優勢:
      1. 靶源易蒸發,即使是高熔點的材料,如氧化物,也很容易蒸發。
      2. 化學計量比準確,沉積的薄膜和靶材的化學組分幾乎完全一樣。
      3. 污染少。
      4. 激光脈沖的重復頻率可進行薄膜厚度/生長速率的數字式或非連續性控制。
      5. 差分抽氣結構,可在寬的氣壓范圍內工作。
      6. 靶材的交換簡單快捷,有利于實現異質外延和多層結構的生長。
      7. 脈沖激光外延制備系統結構緊湊,含有許多技術,如襯底加熱和樣品或靶材的進樣-自鎖交換裝置等。
      8. 在真空環境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊,利用激光產生的局域熱量將靶材物質轟擊出來,再沉積在不同的襯底上,從而形成薄膜。
      9. 外延薄膜、多層異質結構和超晶格的沉積,使用原位RHEED診斷技術沉積納米級薄膜。
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